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超高真空対応マグネトロンRFスパッタソースUHV Magnetron RF Sputter Source

超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース

外観図 Dimensions
超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース
取付フランジ側
取付フランジ側
Tiターゲット設置時の放電の様子
Tiターゲット設置時の放電の様子
装置全体図
CADデータ(準備中)
見積もり
超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース
概要

本スパッタソースは超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。

特徴
  • Oリングを使用しない超高真空タイプ
  • スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能
  • マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能
  • ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能
  • ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、ガス導入用のフランジは不要
仕様 Specification
取付フランジ ICF-152
ターゲットサイズ 1.5inch(円形)
ターゲット固定 リテイナー式
マグネット材質 SmCo
ベーキング温度 300℃
RF電源(オプション)
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