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その他ユニット

分析系5軸マニピュレーター KUHRA-5axise

概要

本機構『分析系5軸マニピュレーター』はXYZθω軸を持ち、光分析装置や電磁気分相装置を中心としたラボ用分析装置向け極高真空領域対応、高精度軸方向移動機構です。
高度な機構の組み合わせることにより、真空中にある試料を精密かつ再現性良く移動・操作させることが可能です。
オプションによる加熱ユニットや冷却ユニット装備により、研究開発目的の幅を更に広げることが可能です。

KUHRA-5axise
KUHRA-5axise
仕様
KUHRA-5axise
駆動範囲 分解能 繰返し精度
X ±12.0mm ≧0.01mm ≧±0.05mm
Y ±12.0mm ≧0.01mm ≧±0.05mm
Z 0〜50mm ≧0.01mm ≧±0.1mm
θ ±5° ≧0.1° ≧±0.1°
ω ±180° ≧0.1° ≧±0.1°
許容リーク量 駆動範囲
許容リーク量 ≦1.33×10-10(Pa・m3/sec)
ベーキング温度 200℃以下
見積もり
オプション
  • モーター駆動&コントローラ
  • 試料加熱/冷却(10K〜1500K)
  • その他 各種試料ホルダー、軸追加、サイズ変更、測定電極

蒸着系5軸マニピュレーター KUHRD-5axise

概要

本機構『蒸着系5軸マニピュレーター』はXYZθω軸を持ち、MB蒸着装置やEB蒸着装置、スパッタ蒸着装置を中心としたプロセス用蒸着装置向け極高真空領域対応、軸方向移動機構です。
高度な機構の組み合わせることにより、真空中にある試料を安定かつ柔軟に移動・操作させることが可能です。
オプションによる加熱ユニットや冷却ユニット装備により、研究開発目的の幅を更に広げることが可能です。

KUHRD-5axise
仕様
KUHRD-5axise
駆動範囲 分解能 繰返し精度
X ±12.0mm ≧0.05mm ≧±0.25mm
Y ±12.0mm ≧0.05mm ≧±0.25mm
Z 0〜100mm ≧0.05mm ≧±0.25mm
θ ±90° ≧0.1° ≧±0.5°
ω ≧0.1° ≧±0.5°
許容リーク量 駆動範囲
許容リーク量 ≦1.33×10-10(Pa・m3/sec)
ベーキング温度 200℃以下
見積もり
オプション
  • モーター駆動&コントローラ
  • 試料加熱/冷却(10K〜1500K)
  • その他 各種試料ホルダー、軸追加、サイズ変更、膜厚センサー

搬送系3軸マニピュレーター KUHRT-4axise

概要

本機構『搬送系4軸マニピュレーター』はXYZθ軸を持ち、試料搬送装置や試料ロードロック/ストック室を中心とした各種装置の搬送系に適し、高真空から極高真空領域まで対応した中精度軸方向移動機構です。
高度な機構の組み合わせることにより、真空中にある試料ホルダーをスムーズに移動・搬送させ、ストックすることが可能です。
オプションによるモーター駆動やエアー駆動により、遠隔操作も可能です。

KUHRT-4axise
仕様
KUHRT-4axise
駆動範囲 分解能 繰返し精度
X ±12.0mm ≧0.05mm ≧±0.25mm
Y ±12.0mm ≧0.05mm ≧±0.25mm
Z 0〜100mm ≧0.05mm ≧±0.25mm
θ ≧0.1° ≧±0.5°
許容リーク量 駆動範囲
許容リーク量 ≦1.33×10-10(Pa・m3/sec)
ベーキング温度 200℃以下
試料ストック数 1〜4 *

* 試料サイズ、形状により変わります。

見積もり
オプション
  • モーター駆動&コントローラ
  • その他 各種試料ホルダー、軸追加、ストック数追加

マスク交換・加熱機構付/蒸着用3軸マニピュレーター

概要

本機構は、多層膜蒸着専用マニピュレーターで、基盤ホルダーとマスクホルダーを個々に有します。
各ホルダーは自由に搬送することが行えるので、連続した多層蒸着が可能となります。
基盤とマスクの貼り合わせもマニピュレーター内で行うことにより、基盤-マスク間のゼロギャップも可能にし、パターン精度の高い蒸着に関しても対応できます。

マスク交換・加熱機構付/蒸着用3軸マニピュレーター
仕様
マスク交換・加熱機構付/蒸着用3軸マニピュレーター
基盤枚数 4
基板サイズ 25mm(最大 75mm)
マスク厚さ 100μm標準
Z軸 50mm
θ軸
許容リーク量 駆動範囲
許容リーク量 ≦1.33×10-10(Pa・m3/sec)
ベーキング温度 150℃以下
見積もり

マルチコンタクトプローブマニピュレーター

概要

本機構は、有機EL素子性能試験機用マニピュレーターで、基盤4枚同時に試験が行えます。
基盤に対して複数のプローブが装着可能で、複雑なパターンにも任意にプローブ位置を変えることで対応できます。
電気特性の他、発光部・輝度の監視も同時に行えます。

マルチコンタクトプローブマニピュレーター
仕様
マルチコンタクトプローブマニピュレーター
基盤枚数 4
ブローブ直径 Φ200μm
ブローブ設置本数 最大20/毎
接触抵抗 80mΦ
許容リーク量 駆動範囲
許容リーク量 ≦1.33×10-10(Pa・m3/sec)
ベーキング温度 150℃以下
見積もり

商品別|装置

その他ユニット